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    Eksma 多階雙波長波片

    簡要描述:Eksma 多階雙波長波片
    在一次和二次Nd:YAG激光諧波下工作,延遲容差<λ/ 300。

    • 產品品牌:Eksma
    • 廠商性質:經銷商
    • 更新時間:2025-11-02
    • 訪  問  量:1253

    詳細介紹

    品牌Eksma價格區間面議
    組件類別光學元件應用領域醫療衛生,環保,化工,電子/電池,綜合

    Eksma 多階雙波長波片

    在一次和二次Nd:YAG激光諧波下工作,延遲容差<λ/ 300。

    Ø同時操作一和二Nd:YAG激光諧波

    Ø延遲公差<λ/ 300

    Eksma 多階雙波長波片

    產品型號

    型號

    延遲和波長

    463-4120

    λ @
    1064 nm + λ/2 @
    532 nm

    463-4121

    λ @ 800 nm + λ/2 @ 400 nm

    463-4140

    λ @
    1064 nm + λ/4 @
    532 nm

    463-4141

    λ @ 800 nm + λ/4 @ 400 nm

    463-4210

    λ/2 @
    1064 nm + λ @
    532 nm

    463-4211

    λ/2 @ 800 nm + λ @ 400 nm

    463-4220

    λ/2 @
    1064 nm + λ/2 @
    532 nm

    463-4221

    λ/2 @ 800 nm + λ/2 @ 400 nm

    463-4240

    λ/2 @
    1064 nm + λ/4 @
    532 nm

    463-4241

    λ/2 @ 800 nm + λ/4 @ 400 nm

    463-4410

    λ/4 @
    1064 nm + λ @
    532 nm

    463-4411

    λ/4 @ 800 nm + λ @ 400 nm

    463-4420

    λ/4 @
    1064 nm + λ/2 @
    532 nm

    463-4421

    λ/4 @ 800 nm + λ/2 @ 400 nm

    463-4440

    λ/4 @
    1064 nm + λ/4 @
    532 nm

    463-4441

    λ/4 @ 800 nm + λ/4 @ 400 nm

     

    材料

    單晶石英

    光軸

    垂直于緩速器圓周上的刻面

    通光孔徑

    Ø17 mm
    (other dimensions on request)

    環安裝外徑

    25.4 mm +0.0/ -0.2 mm

    波片標稱厚度

    0.2÷1.2 mm

    表面質量

    20-10表面光潔度

    波前畸變

    λ/10 @ 633 nm

    平行性

    < 10 arcsec

    增透膜

    R < 0.5%

    激光損傷閾值

    5 J/cm2, 10 nsec, 1064 nm typical

     EKSMA OPTICS是激光,激光系統和光學儀器中使用的精密激光組件的制造商和供應商。 我們的激光組件可在科學,工業,醫學,美學,軍事和航空航天市場的不同激光和光子學應用中使用。 波長范圍從紫外(193 nm)到可見光(VIS)到紅外(20μm)以及太赫茲(THz)范圍的激光光學組件的應用范圍。
    EKSMA Optics是高功率激光應用,激光介質和非線性頻率轉換晶體,光機械,帶驅動器的電光普克爾盒以及超快脈沖拾取系統的制造商和供應商,它們用于激光器和其他應用光學儀器。
    EKSMA Optics從1983年開始在激光領域開始其一項業務,其基礎是在激光和光學領域的長期專業知識。
    公司提供的所有組件均經過質量控制實驗室的高質量測試和認證。 通過嚴格的檢查程序,質量控制評估以及對新技術的承諾,我們不斷改進并提供優良的質量。 EKSMA OPTICS已通過ISO 9001:2015認證。 必維檢驗集團(Bureau Veritas)頒發的認證。
    EKSMA OPTICS大力投資于的制造設備和擴展制造能力。
    公司擁有:?用于平板玻璃和熔融石英光學元件的切割,研磨和拋光設備。 nonlinear可根據要求提供非線性和電光晶體LBO,BBO,KDP,DKDP,KTP,AgGaSe2,ZnGeP2和其他晶體的拋光設備。 of球面鏡和非球面鏡(包括軸錐)的研磨和拋光設備。 在我們的鏡頭生產工廠中,鏡頭由N-BK7,S-LAH64和UVFS制成。 ?IBS鍍膜設施可用于激光光學和晶體的,超精密薄膜鍍膜。 of電光調制器的組裝設備–基于BBO,DKDP和KTP晶體的普克爾斯盒。

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